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須古彩香さん（理工学研究科机能物质创成コース博士前期課程2年?重里有三研究室）が、2015年7月8日（水）～10日（金）、京都リサーチパークで開催された「The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes（スパッタリングおよびプラズマプロセスに関する第13回国際シンポジウム）」におけるポスター発表（使用言语：英語）で「Best Poster Award」を受賞しました。
同会议は、半导体デバイス、物质科学、无机化学、薄膜工学、环境技术、ナノテクノロジーをはじめとした幅広い学术分野の研究者が集い、様々な机能性薄膜を合成するスパッタリング法とプラズマプロセスについて议论をかわす国际会议で（今回は19ヶ国から约250名が参加）、同赏は、同会议内で行われた115件のポスター発表のうち、特に优秀であると认められた3件におくられました。

須古さんの研究発表は「Study on the crystallization of amorphous IGZO thin films deposited by dc magnetron sputtering（直流マグネトロンスパッタ法で合成したアモルファスIGZO薄膜の結晶化に関する研究）」* です。
须古さんは、近年発明され、透明アモルファス酸化物半导体（性能が优れていることから最近、スマートフォンから高精细の大型液晶ディスプレイや有机贰尝ディスプレイ等に応用されている半导体）として利用されている酸化インジウム?ガリウム?亜铅（补-滨骋窜翱）薄膜のホモロガス构造と呼ばれる层状の结晶成长过程を原子レベルで解明し、薄膜の电気特性や薄膜トランジスタ（罢贵罢）のデバイス特性に与える影响を明らかにしました。この研究成果は、より高机能で耐久性のある様々な光エレクトロニクスデバイスの开発に役立つと期待されています。
なお、本研究は、重里研究室と出光兴产株式会社が5年以上にわたって共同で研究を行ってきた产学共同研究成果のひとつです。

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