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2012.07.11
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理工学研究科机能物质创成コースと株式会社ブリヂストンとの共同研究成果がICCG-9国際会議で「Poster Award 3rd Prize」を受賞
2012年6月24日(日)~28日(木)、オランダのブレダで開催された無機薄膜(金属や酸素などの無機物から得られた薄膜)に関する国際会議 (9th International Conference on Coatings on Glass and Plastics, ICCG-9)において、理工学研究科机能物质创成コース(重里有三研究室)と株式会社ブリヂストンで行った共同研究成果が「Poster Award 3rd Prize」 を受賞しました(*国際会議での講演題目については、以下を参照)。
この共同研究は、「三酸化タングステン薄膜」という機能性薄膜に関するもので、本学側では、重里研究室の渡邉将弘さん(2011年3月理工学研究科机能物质创成コース博士前期課程修了)が主として取り組んだものです(ちなみにこの研究成果は、渡邉さんが修士論文としてまとめあげました)。
今回のICCG-9には、27ヵ国から約300名の参加があり、全員の投票によって「Poster Award」 が選出されました。
金属のタングステンを酸化してつくった「叁酸化タングステン」は、电子と结晶格子の相互作用が非常に强い性质(原子の中の电子が动くに従って、格子状に并ぶ规则的な原子の配列、结晶格子、をゆがめる性质)を持っており、またポーラロン吸収(特定の波长の光を吸収する)特性を示すため、エレクトロクロミズムやフォトクロミズム现象(电気や光で色をつける现象)を起こす材料として、最も信頼性の高いものとして注目されてきました。
本研究では、特殊なプラズマ(电离気体)を用いる薄膜生成手法(ホロカソードガスフロースパッタ法)を使って、「叁酸化タングステン」から极めて感度の良い「アモルファス(非晶质=配列に规则性の认められない)叁酸化タングステン薄膜」を高速で合成することに成功すると同时に、生成した薄膜で半径の小さなポーラロン**(スモールポーラロン)による高効率なエレクトロクロミック特性を発现させることにも成功しました。
重里研究室では、产学连携の取り组みとして、10年にわたって株式会社ブリヂストンの中央研究所(先端基盘技术研究ユニット)と共同研究を行っており、この连携が「公司における実践を射程に入れた基础研究」「応用を想定した基盘技术の开発」を可能にしています。また、重里研究室では、大学院生に将来のキャリア?パスを考える机会を提供するとともに、実践的なオン?ザ?リサーチ?トレーニング(翱搁罢)も积极的に行っています。
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ICCG-9 国際会議
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本共同研究で中心的役割を果たした渡邉将弘さん(中央)
| *本国际会议での讲演题目 “Electrochromic WO3 Films Deposited by Hollow Cathode Gas Flow Sputtering with Very High Deposition Rate” M. Watanabe1), N. Oka1), K. Sugie2), Y. Iwabuchi2), H. Kotsubo2), and Y. Shigesato1*) 1) Aoyama Gakuin University, 5-10-1 Fuchinobe, Chuo-ku Sagamihara, Kanagawa 252-5258 2) Chemical and Industrial Products Technology Division, Bridgestone Co., 3-1-1 Ogawahigashi, Kodaira Tokyo 187-8531 **ポーラロンとは
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