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数金拓已さん（理工学研究科机能物质创成コース博士前期課程2年?重里有三研究室）が、2017年7月3日（月）～5日（水）、早稲田大学国際会議場で開催された「The 10th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics;TOEO-10」（透明酸化物薄膜に関する国際会議）におけるポスター発表（使用言语：英語）で「Best Poster Award (Gold)」を受賞しました。

今回で10回目となる同会議は、光エレクトロニクスや環境技術分野で必要不可欠な機能性酸化物薄膜に特化した国際会議で、同賞は、同会議内で行われた優れた研究発表に対しておくられるものです。今回の会議では、34件のポスター発表があり、うち2件にGold Award、3件にSilver Awardがおくられました。

数金さんの研究発表タイトルは、“n-type and p-type SnOx films deposited by reactive sputtering with the impedance control system（インピーダンス制御システムによるn型及びｐ型の酸化スズ(SnOx)薄膜の反応性スパッタ成膜）”です。

数金さんは反応性スパッタリングという薄膜合成方法に特别な工夫をし、精密に制御された様々な化学量论组成を持つ酸化スズ（厂苍翱虫）薄膜の合成に成功しました。この酸化スズは组成によって结晶构造が异なり、一酸化スズ（厂苍翱）はｐ型半导体としての性质を有し、二酸化スズ（厂苍翱2）は苍型半导体としての性质を持ちます。これらの薄膜の电子物性は结晶性や仅かな化学量论组成比の変化に极めて敏感であるため、再现性が高く精密な构造制御法を确立する必要があります。これを、薄膜合成に使うプラズマ（电离気体）からの発光を分光し薄膜成长过程にフィードバックすることで可能にしました。この技术を用いると酸化スズのみで辫苍接合を作製することができ、高性能な発光ダイオード、太阳电池や薄膜トランジスタ等への応用展开が期待できます。
数金さんの研究発表は、研究内容（原子レベルでの高度な结晶构造?组成制御と构造解析结果を示したこと）が优れていたこと、英语でのプレゼンテーションのわかりやすさ等が国内外の审査员から高い评価を受け、同赏に値すると认められました。

同研究は、数金さんの他、以下の研究者が共同研究者として研究にかかわっています。
Daniel Gloes氏（フラウンホーファ電子ビーム＆プラズマ研究所、ドイツ）
（Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik (FEP)）
重里有叁教授（青山学院大学理工学部化学?生命科学科）
贾　军军助教(青山学院大学理工学部)
中村新一氏（青山学院大学理工学部附置机器分析センター）

なお、この薄膜合成研究は青山学院大学とフラウンホーファ电子ビーム＆プラズマ研究所（贵贰笔、ドイツ）の紧密な连携によって、国际共同研究として行われました。

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